Фотополимерные пластины и материалы для их обработки

Сертифицированы и используются для устройств всех производителей этой техники

Область применения

Изготовление офсетных форм в системах CtP с длиной волны излучения 405−410, 488 и 532 нм для печати обычными и УФ-красками на рулонных и листовых машинах с системами увлажнения

Качество и точность передачи изображения

Разрешение обеспечивает высокое качество и удовлетворяет всем требованиям коммерческой печатной продукции. Твердая точка минимизирует растискивание и дает точное воспроизведение градации при регулярном и стохастическом растрировании

Высокая технологичность и надежность

Высокая чувствительность пластин обеспечивает высокую производительность выводного оборудования (до 50 форм/час), снижает себестоимость процесса изготовления форм и создает условия эксплуатации лазерных диодов в течение 10 лет. Устойчивость к царапинам (в том числе и при использовании пылящих бумаг, металлизированных красок) и химикатам печатного процесса, повышает срок службы форм и снижает расходы на печатный процесс. Быстрое «открытие» для печати снижает расход времени и материалов на приладку и ускоряет установление баланса «краска-вода». Высокая тиражестойкость, в том числе и при повторном использовании печатной формы, обеспечивается прочным сцеплением копировального слоя и зерненной алюминиевой основы. Пластины LP-NV обеспечивают возможность изготовления форм для работы с УФ-красками без термообжига с тиражестойкостью до 100 000 оттисков. Высочайшая технологическая культура производства FUJIFILM гарантирует стабильность параметров пластин от партии к партии.

Ассортимент фотополимерных CtP-пластин

Brillia LP-NV

Полноцветная коммерческая печать с характеристиками, аналогичными традиционным пластинам, что позволяет устанавливать оба типа пластин в одну печатную машину.

LP-NNW

Серия высокочувствительных высокотиражных пластин для газетной печати.

LP-NN2

Специально для газетного производства. Непревзойденная тиражестойкость при печати полутонов и текста.

 

Параметры   LP-NV  LP-NNW LP-NN2
Источник света Фиолетовый лазер 405–410 нм  Аргоновый лазер 488 нм,
лазер FD-YAG 532 нм
Чувствительность,
мДж/см2
0,05–0,08 0,15
Фильтр безопасного
освещения
Желтый светофильтрРекомендуется: EncapSulite G10 − защитный светофильтр G10 UV Gold, поставляется в рулонах,
шириной 1200 мм
  Красный светофильтр
Разрешение, lpi 200 (2–98%) 100 (2–98%) 100 (2–98%)
Проявитель/
Подкрепитель
LP-DS/LP-DRC LP-DS/LP-DRC, LP-DS/LP-DRN, LP-DZ/LP-DRZ
Гуммирующий раствор FN-6
Тиражестойкость*, отт.Без термообработки
С термообработкой
Для УФ-красок

200 000
1000 000
100 000

300 000
не применяется
не применяется

300 000
не применяется
не применяется

* Тиражестойкость пластин всегда зависит от типа выводного устройства, режимов изготовления форм и условий печати Схема формирования изображения на негативных пластинах

Схема формирования изображения на негативных пластинах

Материалы FUJIFILM для обработки фотополимерных пластин СtР

Большой срок службы рабочих растворов снижает затраты на материалы, а также на профилактические остановки оборудования для очистки процессора и замены химикатов. Замена раствора должна производиться каждые 8 недель или после обработки 3000 м2 пластин. При этом реактивы сохраняют стабильность свойств и обеспечивают высокое качество изготовления форм в течение всего названного срока. Очистка процессора может производиться обычной теплой водопроводной водой; при необходимости можно использовать специальное средство Processor Cleaner FCT-E15 на кислой основе. Процесс обработки пластин в реактивах FUJIFILM является экологически чистым, а сами реактивы являются «дружественными» оператору.

 

Название Описание Форма поставки
LP-DS Проявитель для фотополимерных негативных пластин:
LP-NV,  LP-NN2, LP-NNW
20 л
LP-DRC Подкрепитель для фотополимерных негативных пластин:
LP-NV, LP-NN2
20 л
LP-DRN Подкрепитель для фотополимерных негативных пластин
LP-NN2, LP-NNW; снижает подачу подкрепления на 50%
20 л
LP-DZ Проявитель для фотополимерных негативных пластин LP-NN2 20 л
LP-DRZ Подкрепитель для фотополимерных негативных пластин
LP-NN2, снижает подачу подкрепления на 50%,
широкие допуски режимов гуммирования
20 л
FN-6 Защитное гуммирующее покрытие для пластин CtP 1 л
CtP deletion pen Корректирующий карандаш для фотополимерных негативных пластин: LP-NV, LP-NN2, LP-NNW 1 шт
Processor Cleaner FCT-E15 Моющий раствор, предназначенный для очистки проявочного СТР-процессора (фотополимерных и термальных пластин) от отложений остатков полимера на валах и в емкости 10 л