- Монтажные принадлежности
- Пластины офсетные FujiFilm
- Химия для обработки пластин
- Резина офсетная
- Калиброванные листы
- Поддекельное самоклеящееся полотно
- Краски офсетные
- Противоотмарывающие порошки
- Сиккативы и добавки для печати
- Очищающие растворы и материалы
- Добавки в увлажнение
- Приборы, контрольные шкалы, лупы, тесты
- Оборудование
- Запчасти
- Прочие материалы
По-русски | In English
Фотополимерные пластины и материалы для их обработки
Сертифицированы и используются для устройств всех производителей этой техники
Область применения
Изготовление офсетных форм в системах CtP с длиной волны излучения 405−410, 488 и 532 нм для печати обычными и УФ-красками на рулонных и листовых машинах с системами увлажнения
Качество и точность передачи изображения
Разрешение обеспечивает высокое качество и удовлетворяет всем требованиям коммерческой печатной продукции. Твердая точка минимизирует растискивание и дает точное воспроизведение градации при регулярном и стохастическом растрировании
Высокая технологичность и надежность
Высокая чувствительность пластин обеспечивает высокую производительность выводного оборудования (до 50 форм/час), снижает себестоимость процесса изготовления форм и создает условия эксплуатации лазерных диодов в течение 10 лет. Устойчивость к царапинам (в том числе и при использовании пылящих бумаг, металлизированных красок) и химикатам печатного процесса, повышает срок службы форм и снижает расходы на печатный процесс. Быстрое «открытие» для печати снижает расход времени и материалов на приладку и ускоряет установление баланса «краска-вода». Высокая тиражестойкость, в том числе и при повторном использовании печатной формы, обеспечивается прочным сцеплением копировального слоя и зерненной алюминиевой основы. Пластины LP-NV обеспечивают возможность изготовления форм для работы с УФ-красками без термообжига с тиражестойкостью до 100 000 оттисков. Высочайшая технологическая культура производства FUJIFILM гарантирует стабильность параметров пластин от партии к партии.
Ассортимент фотополимерных CtP-пластин
PRO-V
Brillia LP-NV
Полноцветная коммерческая печать с характеристиками, аналогичными традиционным пластинам, что позволяет устанавливать оба типа пластин в одну печатную машину.
LP-NNW
Серия высокочувствительных высокотиражных пластин для газетной печати.
LP-NN2
Специально для газетного производства. Непревзойденная тиражестойкость при печати полутонов и текста.
Параметры | LP-NV | LP-NNW | LP-NN2 |
---|---|---|---|
Источник света | Фиолетовый лазер 405–410 нм | Аргоновый лазер 488 нм, лазер FD-YAG 532 нм |
|
Чувствительность, мДж/см2 |
0,05–0,08 | 0,15 | |
Фильтр безопасного освещения |
Желтый светофильтрРекомендуется: EncapSulite G10 − защитный светофильтр G10 UV Gold, поставляется в рулонах, шириной 1200 мм |
Красный светофильтр | |
Разрешение, lpi | 200 (2–98%) | 100 (2–98%) | 100 (2–98%) |
Проявитель/ Подкрепитель |
LP-DS/LP-DRC | LP-DS/LP-DRC, LP-DS/LP-DRN, LP-DZ/LP-DRZ | |
Гуммирующий раствор | FN-6 | ||
Тиражестойкость*, отт.Без термообработки С термообработкой Для УФ-красок |
200 000 1000 000 100 000 |
300 000 не применяется не применяется |
300 000 не применяется не применяется |
* Тиражестойкость пластин всегда зависит от типа выводного устройства, режимов изготовления форм и условий печати Схема формирования изображения на негативных пластинах
Схема формирования изображения на негативных пластинах
Материалы FUJIFILM для обработки фотополимерных пластин СtР
Большой срок службы рабочих растворов снижает затраты на материалы, а также на профилактические остановки оборудования для очистки процессора и замены химикатов. Замена раствора должна производиться каждые 8 недель или после обработки 3000 м2 пластин. При этом реактивы сохраняют стабильность свойств и обеспечивают высокое качество изготовления форм в течение всего названного срока. Очистка процессора может производиться обычной теплой водопроводной водой; при необходимости можно использовать специальное средство Processor Cleaner FCT-E15 на кислой основе. Процесс обработки пластин в реактивах FUJIFILM является экологически чистым, а сами реактивы являются «дружественными» оператору.
Название | Описание | Форма поставки |
---|---|---|
LP-DS | Проявитель для фотополимерных негативных пластин: LP-NV, LP-NN2, LP-NNW |
20 л |
LP-DRC | Подкрепитель для фотополимерных негативных пластин: LP-NV, LP-NN2 |
20 л |
LP-DRN | Подкрепитель для фотополимерных негативных пластин LP-NN2, LP-NNW; снижает подачу подкрепления на 50% |
20 л |
LP-DZ | Проявитель для фотополимерных негативных пластин LP-NN2 | 20 л |
LP-DRZ | Подкрепитель для фотополимерных негативных пластин LP-NN2, снижает подачу подкрепления на 50%, широкие допуски режимов гуммирования |
20 л |
FN-6 | Защитное гуммирующее покрытие для пластин CtP | 1 л |
CtP deletion pen | Корректирующий карандаш для фотополимерных негативных пластин: LP-NV, LP-NN2, LP-NNW | 1 шт |
Processor Cleaner FCT-E15 | Моющий раствор, предназначенный для очистки проявочного СТР-процессора (фотополимерных и термальных пластин) от отложений остатков полимера на валах и в емкости | 10 л |